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在浓度为50%的溶剂溶液中有耐性的恶臭假单胞菌变种

王旭宁;   

  • 出版日期:1990-01-31 发布日期:1990-01-31

  • Published:1990-01-31 Online:1990-01-31

摘要: <正> 在恶臭假单胞菌(Pseudomonas putida)变种菌系中发现了一个含有溶剂抗性基因的遗传片段。日本科学家从日本土壤中分离出抗甲苯的细菌IH-2000。象其他许多有机溶剂一样,甲苯的生物毒性很强,0.1%或更低的浓度便能杀死大多数微生物。因而常被用来给微生物培养基消毒和在细菌酶试验中用来溶解细菌。虽然已经发现有些微生物能够同化甲苯,但其抗性浓度仍低于0.3%。但是,IH-2000菌系能够生长在含50%以上浓度的甲苯或高浓度环已烷、二甲苯、苯乙烯或庚醇的培养基中。

关键词: 恶臭假单胞菌:5541, 抗性基因:3670, 微生物培养基:3188, 二甲苯:2946, 有机溶剂:2680, 抗性浓度:2587, 有溶剂:2531, 生物毒性:2412, 细菌:2360, 菌系:2298